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废气处理装置一览

我公司在半导体制造中不可或缺的废气处理技术领域拥有众多的实际成果,并以丰富多彩的技术和最先进的装置满足客户更加多样化的需求。

NF3用废气处理装置 MODEL-WGH

特点

  • 将NF3分解为低于容许浓度(10ppm)以下。
  • 除害装置出口的气体中不含CO2、NOx和HF。
  • 可以通过270℃以下的低温运行进行除害。
  • NFS分解后的氟化合物将固定在CARTRIDGE(药剂筒) 内,因此不需要设置二级洗涤塔。
    (不需要排水处理装置)
  • 因为是药剂筒式,能力被消耗后的药剂筒可以安全的实施更换。

装置规格

尺寸 W×D×H(mm) 1200×800×2000
装置重量(kg) 500
电源电压(kVA) 17
置换用气 种类 N2
供压 0.4~0.7MPa
使用量 100(ℓ/min)nor
仪表用气 种类 N2或
Dry Air
供压 0.4~0.7MPa
使用量 若干

催化加热分解装置 MODEL-WGB

特点

  • 最适合用于高・强诱导电体制造程式中的废气处理。
  • 可以高效安全地去除挥发性有机物质(THF、醋酸丁酯等)和Pb、Zr、Ti等有机金属复合物。
  • 可以在氧化催化剂的作用下,在温度范围250℃~、有机溶媒爆炸极限以下的大气混合比中完全氧化。
  • 通过加热器加热方式,不需要丙烷等燃烧燃料,可以减少CO2的排放量。
  • 由于过滤器的设置,产生的金属氧化物可以防止被排放到装置的外部。
  • 通过压力和温度监控确保安全性。

装置规格

尺寸 W×D×H(mm) 1400×1100×2000
装置重量(kg) 850
电源电压(kVA) 18
燃烧用Air 种类 Air
供压 0.5~0.7MPa
使用量 200~300
(ℓ/min)nor
置换用气 种类 N2
供压 0.4~0.7MPa
使用量 40(ℓ/min)nor
仪表用气 种类 N2或
Dry Air
供压 0.4~0.7MPa
使用量 若干

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