产品信息
       
废气处理装置一览

我公司在半导体制造中不可或缺的废气处理技术领域拥有众多的实际成果，并以丰富多彩的技术和最先进的装置满足客户更加多样化的需求。

氨分解除害装置　MODEL-WGA

本设备是以GaN制造工序中的废气处理为主要目的的除害装置。将常温干式除害和催化分解式除害进行高效组合，提高了可维护性，并降低了运行成本及环境符负荷。

特長

  • 本设备通过催化剂将NH3分解为氮和氢，实现百分百无害化。
  • 高效、安全地去除GaN制造工序废气中含有MO的有毒气体。
  • 完全不会产生NH3氧化法除害等会带来的NOx。
  • 因为不是火焰式（燃烧式），所以不需要丙烷供给设备和排水设备。（但A20分解筒采用了水冷式）
  • 确保除害后气体中的除害目标气体浓度在ACGIH/TLV-TWA值以下。
  • 由于是为吸附再生方式，不使用除害剂，以及无需实施抽取充填作业等项目，可降低运行成本。

装置性能

型式
装置尺寸 W×D×H（mm）		 后处理方式 入口NH3流量
[ℓ/min](nor)		 入口总流量
[ℓ/min](nor)
WGA-7A-2-A3
1,900×600×1,900		 A3分解筒
（干式除害型）		 12.4 37.6
WGA-12A-2-A5
2,550×800×1,900		 A5分解筒
（干式除害型）		 20.6 62.4
WGA-62B-2-A10
3,300×1,000×1,900		 A10分解筒
（干式除害型）		 35 115
WGA-62B-2-A20
3,100×1,350×2,200		 A20分解筒
（干式除害型）		 82.6 250.4
WGA-62B12A-2-A20-M
3,400×1,350×2,200		 A20分解筒
（吸附再生型）

※有关可应对的流量请咨询我公司。

示意图（后处理方式：干式除害型）

示意图（后处理方式：吸附再生型）

以下为相关产品

不需要附带设备，因此可节省空间，并降低运行成本。

可以用水再生吸附筒，因此CARTRIDGE寿命较长。