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产品信息

气体纯化装置

半导体的制造工序中会用到各种原料气体和载气。为了形成优质的半导体，我们将根据客户所使用的气体类型，推荐出最佳的纯化装置。

常温吸附式纯化装置　Model-VPE　AN/AAR/AHE/AH/AAM

VPE系列纯化装置

特点

通过我公司开发的独家催化剂，可对气体进行高纯度的提纯。
纯化系列的切换可以设置适合原料气体的流量和杂质浓度的最佳系列切换时间。此外，也可以根据纯化气体的流量累积值进行系列切换，因此在低流量下使用时，系列切换时间将延长，从而起到节能效果。
减少实现了设置空间。（按本公司内的比率减少了18％）
维护保养空间主要是按装置的正面和背面为基本条件，装置侧面可做到紧密设置。（但需预留耐震金属零件的设置空间）
对应各规格（SEMI、ASME、ML等）

装置性能

型式 VPE-		AN		AAR		AHE		AAM		AH
适用气体		N2		Ar		He		NH3		H2
		Inlet	Outlet	Inlet	Outlet	Inlet	Outlet	Inlet	Outlet	Inlet	Outlet
最大压力（Mpa）		0.8	≦⊿0.1	0.8	≦⊿0.15	0.8	≦⊿0.1	0.8	≦⊿0.1	0.8	≦⊿0.1
温度（℃）		5～35						22～35		5～35
各种杂质（vol,ppb）	O2	1000	≦5（标准） ≦0.1（Option）	1000	≦5（标准） ≦0.1（Option）	1000	≦5（标准） ≦0.1（Option）	2000	≦5	1000	≦1（标准） ≦0.1（Option）
	CO	1000	≦5（标准） ≦0.1（Option）	1000	≦5（标准） ≦0.1（Option）	1000	≦5（标准） ≦0.1（Option）	-	-	1000	≦5（标准） ≦0.1（Option）
	CO2	500	≦5（标准） ≦0.1（Option）	500	≦5（标准） ≦0.1（Option）	500	≦5（标准） ≦0.1（Option）	-	-	500	≦5（标准） ≦1（Option）
	H2	1000	≦5（标准） ≦0.1（Option）	1000	≦5（标准） ≦0.1（Option）	1000	≦5（标准） ≦0.1（Option）	-	-	-	-
	H2O	2600	≦5（标准） ≦0.1（Option）	2600	≦5（标准） ≦0.1（Option）	2600	≦5（标准） ≦0.1（Option）	2600	≦55（标准） ≦5（Option）	2600	≦5（标准） ≦1（Option）
	Particle		≧0.1μm （≦1pcs/cf）※1		≧0.1μm （≦1pcs/cf）※1		≧0.1μm （≦1pcs/cf）※1		≧0.1μm （≦1pcs/cf）※1		≧0.1μm （≦1pcs/cf）※1

※1　如要确保出口颗粒值，请选择纯化气体颗粒过滤网（可选部件）。

装置规格

Model VPE-		1.5	2	2.5	3	4	6	8	10	12	18
标准流量 [Nm3/h]		5	10	20	30	50	100	200	300	500	1000
型式（适用气体）	AN （N2）	●	●	●	●	●	●	●	●	●	●
	AAR （Ar）	●	●	●	●	●	●	●	●	●	-
	AHE （He）	●	●	●	●	●	●	●	●	●	-
	AH （H2）	●	●	●	●	●	●	●	●	●	-
	AAM （NH3）	●	●	●	●	●	●	-	-	-	-
尺寸 [mm]	宽	400			700		750	950	1200		1555
	深	600			650		600	750	950		1220
	高	1880			2000		2000	2000	2200		2590
重量 [kg]		150	200	250	350	400	600	750	900	1100	1600

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