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废气处理装置一览

我公司在半导体制造中不可或缺的废气处理技术领域拥有众多的实际成果，并以丰富多彩的技术和最先进的装置满足客户更加多样化的需求。

PFC催化加热分解装置 　MODEL-WGF

本设备可以百分百分解CF4、C2F6、C5F8等PFC，以及SF6和HFC。此外，因为采用加热器加热的方式，所以不需要丙烷等燃烧燃料，可以将CO2的排放量控制在最小范围。

特点

  • 不需要附带设备，因此可节省空间，实现了低运行成本。
  • 不需要火焰和燃料，因此安全性高。
  • 分解温度相对较低，因此不会产生热NOx。
  • 催化成分还会吸收和固定氟化合物，因此不需要湿式洗涤塔等后处理装置。

装置性能

最大处理流量
[ℓ/min]		 80(包括添加的Air)
最大PFC浓度(%) 1.0※1
PFC分解率 99.9%以上
CF4处理量(ℓ/根) 1500
除害目标气体 CF4、C2F6、SF6、CO、CHF3等

※1 CO浓度为4.0%。

示意图（有前处理筒）

效用

用于清除的
N2(ℓ/min)		 ～80
添加的 Air(ℓ/min) ～20
添加的 H2O(ℓ/min) 若干量
冷却水(ℓ/min) 13
装置尺寸
W×D×H(mm)		 1250×1050×2000
(无前处理筒)
1500×1050×2000
(有前处理筒)

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通过分离燃烧喷嘴和二次燃烧室，可以在流量变动时稳定燃烧。

本装置是以GaN制造工序中的废气处理为主要目的的除害装置。