製品情報
ガス精製装置

半導体の製造工程において、各種の材料ガス・キャリアガスが使用されます。良質な半導体を形成するために、御使用になるガスの種類に応じた、最適な精製装置をご提案します。

パラジウム合金膜透過式水素ガス精製装置　MODEL-VP-DH

特長

  • 水素以外の物質は全く透過しないパラジウム合金膜透過による精製方法であり、ダストを含まない超高純度水素ガスが得られます。
  • 当社のパラジウムセルは長寿命※1です。独自に開発したパラジウム合金細管を用いており高い強度、耐久性と大きな水素透過能力を持っています。
  • 再生操作は不要であり、常に安定した高純度の水素ガスが得られます。
  • 装置は自動運転です。

※1 実績7年以上

セル内部図

装置性能

形式 VP-DH
適用ガス H2
Inlet Outlet
最大圧力(MPa) 0.98 0.003
温度(℃) 5～35 5～35
ガス純度 ≧99.5% ≧99.999999%
各不純物
(vol.ppb)		 O2 - ≦0.1
CO - ≦0.1
CO2 - ≦0.1
H2 - -
CH4 - ≦0.1
N2 - ≦0.1
H2O - ≦1
Particle   ≧0.1µm
≦1pcs/
0.0283m3

※対応流量についてはご相談ください。

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