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パイオファインカートリッジ（半導体用ガス精製器） MODEL-PF
特長
- 独自に開発した触媒の使用により、各種半導体用ガスの精製に優れた性能を発揮します。
- 精製筒、高性能フィルターおよびダイヤフラムバルブの一体構造によるコンパクト化を実現し、よりユースポイント近くでの精製が可能です。
- 高性能フィルターおよび出荷前のベーキング処理によりパーティクル/脱ガスについての万全の対策を施しています。
- 特別なユーティリティの必要はありません。（N型、B型は再生可能です。）
装置性能
| 型式 PF- | H,A,N | ||
|---|---|---|---|
| 適用ガス | 下記適用ガスによる | ||
| Inlet | Outlet | ||
| 最大圧力(MPa) | 0.5 | ⊿0.1以下 | |
| 温度(℃) | 5～35 | 5～35 | |
| 各不純物 (vol.ppb) |
O2 | 500 | ≦10 |
| H2O※1 | 1,000 | ≦13 | |
※1 酸性ガス、アンモニア系ガスについてはモデルガス（H2O 1,000ppbのN2ガス）を精製した結果です。
※ガス中粒子除去率は0.01µm以上の粒子に対して99.9999999%以上です。
| 型式 PF- | B | ||
|---|---|---|---|
| 適用ガス | 下記適用ガスによる | ||
| Inlet | Outlet | ||
| 最大圧力(MPa) | 0.5 | ⊿0.1以下 | |
| 温度(℃) | 5～35 | 5～35 | |
| 各不純物 (vol.ppb) |
O2 | 500 | ≦1 |
| CO | 500 | ≦1 | |
| CO2 | 100 | ≦1 | |
| H2 | 1,000 | ≦1 | |
| H2O | 1,000 | ≦1 | |
※精製ガス純度0.1ppb対応も可能です。（オールメタルダイヤフラムバルブ使用）
※ガス中粒子除去率は0.01μm以上の粒子に対して99.9999999%以上です。
型式
| 型式 | 精製ガス量 (ℓ/min(nor)) |
精製能力(m3(nor))※2 | 重量 (kg) |
||
|---|---|---|---|---|---|
| H,N | A | B | |||
| PF-05-□※1 | 0.5 | 80 | 40 | 160 | 1.8 |
| PF-2-□ | 2.0 | 240 | 120 | 480 | 3.5 |
| PF-10-□ | 10.0 | 1,200 | 600 | 2,400 | 8.5 |
※1 □内には適用ガス種を表すH、A、N、Bのいずれかの記号が入ります。
※2 混合ガスの場合はバランスガスも含みます。
（参考）8.5MPa充填47ℓボンベのガス量は約4m3(nor)です。
適用ガス
| H型 | AsH3, PH3, SiH4, Si2H6, H2S, H2Se, etc |
|---|---|
| A型 | HCl, BF3, SiF4, SiH2Cl2, HBr, etc |
| N型 | NH3, (CH3)2NH, etc |
| B型 | N2, He, Ar, H2, etc |
※上記ガス種以外はご相談ください。
マスフローコントローラ
特長
- SECシリーズは、堀場エステックの流量計測・制御技術の粋を結集し開発された純国産の高性能マスフローコントローラです。マスフローコントローラは流体の質量流量計を計測・制御します。搭載された高性能流量センサーおよび高分解能流量制御バルブにより、使用環境の変化や供給圧変動の影響を受けず、外部より電気信号により与えられる流量設定値に流量制御を行います。高精度化、多機能化への対応として、CPUを搭載したデジタルマスフローコントローラもラインナップしています。
Z500 series
特長
- 高精度 ±1.0S.P（. セットポイント）保証
- 高速対応 フルレンジ1秒以内（T98）
- マルチレンジ／マルチガス対応
仕様
| フルスケール流量（N2相当） | 10SCCM〜50SLM | 100SLM、200SLM | 300SLM、500SLM |
|---|---|---|---|
| 精度 | ±1.0%S.P. （Flow rate＞25%F.S.） ±0.25%F.S. （Flow rate≦25%F.S.） |
±1.0%S.P. （Flow rate＞35%F.S.） ±0.35%F.S. （Flow rate≦35%F.S.） |
±2.0% S.P. （Flow rate＞50%F.S.） ±1.0%F.S. （Flow rate≦50%F.S.） |
| 電源 | ±15VDC ±24VDC（Z504、Z507series） |
||
| 通信 | Analog（0-5VDC） Digita（l RS-485 F-net） DeviceNet™ EtherCAT® |
||
SEC-E series
高性能のサーマルセンサ、ソレノイドバルブを搭載。基本性能は上位モデル同等の性能を持つ、汎用型マスフローコントローラです。
特長
- 高精度、高速応答、高信頼性のベーシックモデル
- MK3タイプは校正ガスを限定することにより、コストパフォーマンスを追求したモデル（校正ガス：N2／O2／Air／H2／He／Ar）
- 大流量モデル（E431X／E441X）はMAX 200SLMまで対応
仕様
| 標準流量レンジ | SEC-E40 10SCCM〜10SLM SEC-E50 20SLM〜30SLM |
SEC-E431X 50SLM〜100SLM SEC-E441X |
|---|---|---|
| 流量制御範囲 | 2〜100%F.S. | 5〜100%F.S. |
| 流量精度 | ±1%F.S. | |
| 電源 | ±15VDC | |
| 通信 | Analog（0-5VDC） | |
多成分ガス混合装置（MU-3000シリーズ）
特長
- 安定した濃度のガス発生
- 多様なガス種への対応
マルチガス・マルチガスレンジ機能を使用し、ガス種・流量レンジの変更が可能です。 - 簡単操作（ガス混合濃度での設定可能）
仕様
| 型式 | MU (2 Line, 3 Line, 4 Line, 5 Line and 6 Line) |
|---|---|
| 発生最大流量 | 50SLM |
| 搭載MFC | SEC-N102 series (Max 6 Line) |
| ガス種 | ご指定ガス（腐食性ガスは別途ご相談ください） |
| 流量レンジ | 2〜100% F.S. |
| 接ガス部材質 | SUS304, SUS316, FKM |
| 流量精度 | ±1% S.P. |
| 流量再現性 | ±0.2% F.S. |
| 流量直進性 | ±0.5% F.S. |
| 原料ガス供給圧力 | 0.1〜0.45MPa(G) |
| 二次側使用圧力 | 大気圧〜0.25MPa(G) |
| 流量設定方法 | 総発生流量設定 専用ソフトウェアによる設定 |
| 濃度設定方法 | 発生濃度設定 専用ソフトウェアによる設定 |
| 制御 | 専用ソフトウェアによるプログラム運転 |
| 電源 | AC100V 50/60Hz |
キャパシタンスマノメータ（VGシリーズ）
特長
- 小型のキャパシタンスダイヤフラムゲージ
- 自己温調型は最小クラス
- 独自の電極構造により高精度・高安定性を実現
- 腐食に強いオールメタル構造
アプリケーション例
- 真空乾燥炉
リチウムイオンバッテリ電極、FPD基板、溶剤塗布後の乾燥工程をモニタリングします。
仕様
| 測定範囲 | 1 Torr F.S. | 10/100/1000 Torr F.S. |
|---|---|---|
| 自己加熱温度 | 55°C/100°C | |
| 精度 | 0.5% R.S. | 0.25% R.S. |
| 電源 | ±24V or ±15V | |
