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其他气体相关机器

PIOFINE CARTRIDGE(半导体用气体纯化器) MODEL-PF

特点

  • 使用了我公司独家开发的催化剂,可在各类半导体用气体纯化中发挥出色的性能。
  • 通过纯化筒、高性能过滤器和隔膜阀的一体化结构实现装置小型化,可以在更接近使用点的地方进行纯化。
  • 通过高性能过滤器和出厂前的烘烤处理,做好万全的颗粒/除气对策。
  • 不需要特殊的公用设施。(N型和B型可以再生)

装置性能

型式 PF- H,A,N
适用气体 下述适用气体的
Inlet Outlet
最大压力(MPa) 0.5 ⊿0.1以下
温度(℃) 5~35 5~35
各种杂质
(vol.ppb)
O2 500 ≦10
H2O※1 1,000 ≦13

※1 酸性气体和氨类气体显示的是样本气体(H2O 1000ppb的N2气体)的纯化结果。
※气体中颗粒去除率为0.01µm以上的颗粒可去除99.9999999%以上。

型式 PF- B
适用气体 下述适用气体的
Inlet Outlet
最大压力(MPa) 0.5 ⊿0.1以下
温度(℃) 5~35 5~35
各种杂质
(vol.ppb)
O2 500 ≦1
CO 500 ≦1
CO2 100 ≦1
H2 1,000 ≦1
H2O 1,000 ≦1

※纯化气体純度以0.1ppb对应可能。
※针对气体中颗粒去除率为0.01μm以上的颗粒去除率为99.9999999%以上。

型式

型式 纯化气体量
(ℓ/min(nor))
纯化能力(m3(nor))※2 重量
(kg)
H,N A B
PF-05-□※1 0.5 80 40 160 1.8
PF-2-□ 2.0 240 120 480 3.5
PF-10-□ 10.0 1,200 600 2,400 8.5

※1 □内为表示适用气体种类的H、A、N、B中的任意一个记号。
※2纯化混合气体时,也包括平衡气。
(参考)8.5MPa充填47ℓ气瓶的气体量约为4m3(nor)。

适用气体

H型 AsH3, PH3, SiH4, Si2H6, H2S, H2Se, etc
A型 HCl, BF3, SiF4, SiH2Cl2, HBr, etc
N型 NH3, (CH3)2NH, etc
B型 N2, He, Ar, H2, etc

※上述以外的气体种类请咨询我公司。

管路滤清器 XLF-M 以0.01μm可对应的小型特氟龙滤膜款型

特長

  • 此款半导体用气体过滤器是我公司基于清洁供气系统相关的技术而开发的高性能轴向气体过滤器。

XLF-M 以0.01μm可对应的小型特氟龙滤膜

规格

最高使用压力:
0.98MPa(9.8kgf/cm2G)
最大使用压差:
0.3MPa(3kgf/cm2)※
最大容许反压:
0.1MPa(1kgf/cm2)
最高使用温度:
130℃
有效过滤面积:
12cm2
氦泄露率:
1×10-9atm・cc/sec以下
均匀颗粒去除率:
0.01μm 99.999999%以上
0.05μm 99.999999%以上
0.10μm 99.999999%以上
材质:
器身:SUS316L
内表面加工:特殊電解研磨仕上げ
滤芯:PTFEメンブラン
同上支撑体:PFA

流量特性

※在最大使用压差范围内未发现颗粒泄漏,但为了更有效地确实实际的去除颗粒,
建议压差在0.02Mpa以下的环境中使用。
(注)压力单位以1kgf/cm2G=0.1MPa进行换算。

型式一览

型式 接头 内表面加工 L(mm)
XLF-D-V2P 1/4”VCR型 特殊电解抛光 127
XLF-D-V3P 3/8”VCR型
XLF-D-S2P 1/4”Swagelok型 126※
XLF-D-S3P 3/8”Swagelok型 132※

※Swagelok型是包含盖形螺母在内的尺寸。

ULF-B06 以0.09μm可对应的通用小型特氟龙滤膜

规格

最高使用压力:
0.98MPa(9.8kgf/cm2G)
最大使用压差:
0.01MPa(0.1kgf/cm2)※1
最大容许反压:
0.1MPa(1kgf/cm2)
最高使用温度:
100℃
有效过滤面积:
10cm2
均匀颗粒去除率:
0.09μm 99.999999%以上
材质:
器身:SUS316
滤芯:PTFE滤膜
同上支撑体:ETFE
O形环:氟橡胶(标准)※2

※1 请不要在超过最大使用压差的环境中使用。
※2 如果需要使用其他材质,请咨询我公司。
※ 用于特殊原料气体时,请选择XLF型。
(注)压力单位以1kgf/cm2G=0.1MPa进行换算。

型式一览

型式 接头 L(mm)
ULF-B06-W2-V 1/4”Swagelok型 145※
ULF-B06-W3-V 3/8”Swagelok型 150※

※尺寸包括螺母。

质量流量控制器

特点

  • SEC系列是集结了HORIBA STEC的流量测量和控制技术的精华而开发的纯国产高性能质量流量控制器。质量流量控制器用于测量和控制流体的质量与流量。它可以通过搭载的高性能流量传感器和高分解能流量控制阀,在不受使用环境变化和供压变动影响的情况下,对外部电信号赋予的流量设定值进行流量控制。我公司还推出了搭载CPU的数字质量流量控制器系列,以满足高精度化和多功能化等需求。

Z500 series

特点

  • 高精度 确保质量±1.0S.P(. 设定点)
  • 可高速对应 满量程1秒以内(T98)
  • 可多量程/多气体来对应

规格

满量程流量(相当于N2) 10SCCM〜50SLM 100SLM、200SLM 300SLM、500SLM
精度 ±1.0%S.P.
(Flow rate>25%F.S.)
±0.25%F.S.
(Flow rate≦25%F.S.)
±1.0%S.P.
(Flow rate>35%F.S.)
±0.35%F.S.
(Flow rate≦35%F.S.)
±2.0% S.P.
(Flow rate>50%F.S.)
±1.0%F.S.
(Flow rate≦50%F.S.)
电源 ±15VDC
±24VDC(Z504、Z507series)
通信 Analog(0-5VDC)
Digita(l RS-485 F-net)
DeviceNet™
EtherCAT®

SEC-E series

搭载高性能热敏传感器和电磁阀的质量流量控制器,基本性能与高配版机型性能相同的一般通用型质量流量控制器。

特点

  • 高精度、高速应答、高可靠度的基础款
  • MK3型是通过限定校正气体实现高性价比的机型(校正气体:N2/O2/Air/H2/He/Ar)
  • 大流量机型(E431X/E441X)可支持MAX 200SLM

规格

标准流量量程 SEC-E40 10SCCM〜10SLM
SEC-E50 20SLM〜30SLM
SEC-E431X 50SLM〜100SLM
SEC-E441X
流量控制范围 2〜100%F.S. 5〜100%F.S.
流量精度 ±1%F.S.
电源 ±15VDC
通信 Analog(0-5VDC)

多成分气体混合装置(MU-3000系列)

特点

  • 产生浓度稳定的气体
  • 支持多种气体
    可使用多气体/多量程功能,更改气体种类和流量量程。
  • 操作简单(可设置气体混合浓度)

仕様

型式 MU (2 Line, 3 Line, 4 Line, 5 Line and 6 Line)
产生最大流量 50SLM
搭载MFC SEC-N102 series (Max 6 Line)
气体种类 指定的气体(腐蚀性气体请另行咨询)
流量量程 2〜100% F.S.
气体接触部材质 SUS304, SUS316, FKM
流量精度 ±1% S.P.
流量再现性 ±0.2% F.S.
流量直进性 ±0.5% F.S.
原料气体供压 0.1〜0.45MPa(G)
出口压力 大气压〜0.25MPa(G)
流量设置方法 设置总产生流量 通过专用软件设置
浓度设置方法 设置产生浓度 通过专用软件设置
控制 专用软件的程序运行
电源 AC100V 50/60Hz

电容薄膜真空计(VG系列)

特点

  • 小型电容薄膜真空计
  • 在自控温型产品中属最小级别
  • 采用独家电极结构,实现高精度和高稳定性
  • 耐腐蚀的全金属结构

应用示例

  • 真空干燥炉
    可监测锂离子电池电极、FPD基板和涂布溶剂后的干燥过程。

仕様

测定范围 1 Torr F.S. 10/100/1000 Torr F.S.
自加热温度 55°C/100°C
精度 0.5% R.S. 0.25% R.S.
电源 ±24V or ±15V

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